為了獲得光亮的電拋光表面，要使表面上微觀粗糙度降低到低于光的波長。要達此目的，通常認為應當形成比中間黏液層更厚、更致密、更易鈍化的緊密層，它可以是趨于飽和的高黏度黏液層，也可以是固體層。這樣，金屬的溶解是在緊密膜內進行的，緊密膜的形成速度應當超過該膜的溶解速度，這是存在緊密膜的前提。在幾乎無對流的特殊條件下，變得十分厚，也更加緊密，甚至可以出現光的干涉色。在這樣厚的黏液膜或固體膜內，陽極電流密度變得非常小，它可以使微觀的凸出部溶解，而微觀的凹入部不再溶解，這就達到了微觀整平目的。由于類似的狀態(tài)在金屬表面的多處均存在，使表面的各個部分均發(fā)生微觀整平，這種表面的無序微觀整平的結果，就使金屬表面變得光亮。所以電拋光實際上是陽極表面的宏觀整平(一次電流分布)和微觀整平(二次電流分布)作用的結果。只有宏觀整平，陽極表面只能變得平滑，但不能產生光澤。有些電解液可以同時具有宏觀整平與微觀整平作用，在使用拋光機拋光的一階段，形成的黏液膜的黏度還不夠高，此時只起宏觀整平作用。當宏觀整平進行到一定程度后，形成的黏液膜更黏、更貼近金屬表面，因此也可以起微觀整平的作用，從而達到真的拋光的效果。